能够精确复制靶材的化学成分，并在薄膜制备中保持化学计量比，可实现复杂化合物的制备；具有高沉积速率和高通量制备。

逐层镀膜实现对薄膜厚度的精确控制；可以在不平整的3D结构表面实现均匀镀膜，更适用于MEMS制程；自限性反应，薄膜均匀性好、缺陷少、薄膜厚度精确控制；适用于氧化物、氮化物及有机物等多种材料。

可用于溅射沉积各种金属、合金、Ⅲ-Ⅴ族化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜，也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜。

立式离子束刻蚀系统和卧式离子束刻蚀系统两种，可以实现材料表面清洗、三维结构刻蚀、材料表面终极抛光以及材料减薄等功能，还具备可实现化学辅助离子束刻蚀和反应离子刻蚀等扩展功能的软、硬件基础。

设备优势：
PECVD可生产具有优异均匀性和高沉积速率的薄膜，并可改变薄膜的材料性质，如折射率、应力、电学特性和湿法腐蚀速率等，
在达到高沉积速率的同时，还能保证薄膜性能和晶圆均匀性。

设备优势：RIE反应离子刻蚀机用于刻蚀氮化物、氧化物和任意需要氟基化学的薄膜或基片，其高选择性各向异性刻蚀，可满足苛刻的制程要求，在纳米级别内进行精确刻蚀，同时确保极高的精度和质量。

我公司销售的高端手持式网络和光纤测试设备可按照客户需求定制，是一种便携式、多功能的测试设备，集成了多种网络测试和光纤测试功能，专门用于网络运维、光纤检测和故障排查等场景。这种设备为网络工程师、光纤技术员和现场维护人员提供了一个轻便的工具，能够在一个设

SupraconSW1热控超导开关为4.2K液氦温区专用芯片器件，依靠内置微型加热器实现超导态/常导态无机械切换，适配CNxblue全系列SQUID电流传感器、JESSY读出电子，用于磁通捕获、回路隔离、SQUID系统复位、TES探测器前端控制，可集成各类低温超导测量平台，是量子计量、低温物理、生物磁设备标准配套元器件。

我们提供各种直流SQUID，电感范围从几个pH到500pH，互感在100pH到20nH之间，输入线圈电感在100pH到1000nH之间

在探测器设置中使用SQUID电子设备进行测量时，直流SQUID以高带宽探测器的小振幅放大信号。这允许使用传统的AD转换器进行进一步的信号处理。SQUID和探测器的所有必要工作电流和电压（用于加热探测器的直流电流和电流脉冲，最小校准长度为10μs）都可以由计算机轻松

这种SQUID读出器非常适合较低信号频率的测量，如噪声测温、重力波或地球物理实验或生物磁性测量。SQUID读出电路由我们的控制盒SQC-1控制，控制盒可放置在离读出装置数米远的地方。该控制盒用于设置SQUID的射频频率和射频功率、通量调制幅度、调制与内部锁定参考

SupraconCNxblue系列铌基LTSdc-SQUID电流传感器（包含CN2/CN4/CN8/CN17/CN34五大型号），采用亚微米十字约瑟夫森结全难熔Nb/Al-AlOx超导工艺，4.2K液氦温区工作；芯片集成输入线圈、磁通反馈、电流反馈与片上加热电阻，内置射频滤波，最低输入电流噪声可达0.08pA/√Hz，搭配JESSY系列读出电子即可直接使用，无需额外低温匹配电路，适配TES探测器、生物磁梯度计、量子计量、超导材料微弱电流高精度采集。