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纳米线宽 / 光栅周期标准样品(Nanoscale Line Width / Grating Period Standard)

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商品说明

一、产品概述

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本款纳米线宽光栅周期标准样品为德国 Supracon 原厂计量标样,适配多类高分辨显微设备横向尺寸校准、分辨率验证与像差检测,覆盖深紫外显微镜(DUV)、共聚焦激光扫描显微镜(CLSM)、原子力显微镜(AFM)三类主流设备。

标样基底采用石英基材,表层沉积 25 nm 厚纳米晶硅并通过精密刻蚀形成多类型光栅结构,图案在紫外波段仍具备良好光学对比度,可兼容紫外透射、紫外反射、激光扫描多种观测模式,兼顾测量精度与使用成本。

芯片集成一维线性光栅、二维十字光栅、圆形光栅三类图案,一维光栅侧边单独配置独立单结构,用于临界尺寸(CD)定量标定;光栅周期覆盖 160 nm~4 μm,对应线宽区间 80 nm~2 μm,尺寸档位丰富,满足不同尺度纳米检测需求。

单块校准芯片尺寸 8×8 mm²,配套阳极氧化铝材质标准载片,芯片集成金质定位标记,便于快速定位观测区域;产品可按需提供德国布伦瑞克 PTB 研究院出具的线宽、周期校准证书,测量量值具备权威计量溯源性。

二、产品核心特点

多类型复合光栅结构

同时搭载一维 XY 向线性光栅、二维十字光栅、圆形光栅,兼顾线性尺寸校准、二维正交畸变检测、圆形结构圆度验证,单一样品可完成多项设备性能校验。

全紫外波段高光学衬度

纳米晶硅刻蚀结构在深紫外波长区间成像对比度良好,适配 248 nm 深紫外浸没式高分辨显微系统,可清晰分辨 160 nm 微小周期光栅。

多设备通用兼容

一套标样同时适配 DUV 深紫外光学显微镜、CLSM 共聚焦显微镜、AFM 原子力显微镜,实验室可减少多规格标样采购数量。

可开展像差检测

规整均匀的纳米光栅阵列,可用于光学显微系统散光、畸变等成像缺陷检测,辅助设备日常质控。

尺寸均匀稳定,计量可溯源

光栅沿线条长度方向尺寸偏差可控,主周期测量不确定度低;支持 PTB 官方计量认证,满足实验室计量、第三方检测合规要求。


商品参数

三、详细技术参数

项目技术指标
基底材质石英玻璃
功能层纳米晶硅,厚度 25 nm
校准芯片尺寸8 mm × 8 mm
配套载片76×26×2 mm,阳极氧化铝合金
定位标记金层,厚度 100 nm
光栅种类1. 一维线性光栅(X/Y 双向)2. 二维十字光栅3. 圆形光栅4. 独立单结构(用于 CD 临界尺寸标定)
单组光栅区域尺寸常规 10×10 μm²(4 μm 周期光栅除外)
标称线宽(CD)80 nm、100 nm、115 nm、130 nm、200 nm、250 nm、350 nm、500 nm、2 μm
线宽均匀性6 μm 长度区间内线宽偏差<8 nm(1σ)
光栅周期档位160 nm、200 nm、230 nm、260 nm、300 nm、400 nm、500 nm、700 nm、1 μm、4 μm
主周期不确定度3 nm(1σ)
圆形光栅圆度误差X/Y 方向相对主周期偏差 ±0.6%(160 nm 光栅偏差 ±1 nm)
配套认证可申请德国 PTB 布伦瑞克物理技术研究院线宽、周期校准证书


四、主要应用场景

1. 光学显微镜校准与性能检测

1.1 深紫外 DUV 显微镜、CLSM 共聚焦显微镜横向放大倍率校准、光栅周期标定;

1.2 显微系统分辨率极限测试,验证高 NA 浸没物镜成像分辨能力;

1.3 光学系统散光、图像畸变等像差缺陷筛查,用于设备日常质量管控;

1.4 紫外透射 / 紫外反射 / 激光扫描多模式成像性能对比校验。

  • 2. AFM 原子力显微镜计量校准

  • 用于 AFM 设备 XY 轴横向尺寸、纳米线宽、光栅周期定期校准,修正扫描非线性误差,保障纳米形貌、尺寸测量数据一致性。
  • 3. 半导体与纳米光刻行业

  • 晶圆微纳图形、光刻胶纳米结构临界尺寸检测设备校准,半导体制程实验室仪器定期核查,匹配纳米工艺质控需求。
  • 4. 科研与第三方检测实验室

  • 高校材料、纳米生物、微纳加工实验室;第三方计量检测机构,用于仪器能力验证、实验数据比对,测量结果具备国际互认基础。
  • 5. 微纳材料表征

  • 纳米薄膜、二维材料、微纳涂层等样品观测前设备精度校准,提升纳米尺度形貌定量测量可靠性。


五、使用与存放说明

  1. 芯片搭载金质定位标识,上机后可快速定位目标光栅区域,降低操作耗时;

  2. 石英基底化学稳定性佳,洁净干燥环境下可长期重复使用;

  3. 原厂配套 SEM、DUV 显微镜标准成像参考图,便于用户对照判断成像质量;

  4. 可提供原厂完整技术资料,按需办理 PTB 计量校准服务,适配各类合规检测场景。



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