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Supracon纳米尺度 AFM-CD 标准样品 AFM CD standard

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商品说明

Supracon纳米尺度 AFM-CD 标准样品(原子力显微镜临界尺寸校准标样)AFM CD standard

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一、产品概述

本款纳米尺度 AFM-CD 标准样品由德国 Supracon AG 研发生产,是面向原子力显微镜(AFM)的专业纳米级校准器件,核心用于 AFM 线宽、光栅周期等关键尺寸(CD)校准,同时可辅助评估 AFM 探针针尖形貌,适配纳米尺度精密测量场景。

标样基底采用 <110> 取向单晶硅材质,通过高精度刻蚀工艺制备出一系列表面平整、边缘锐利、侧壁垂直的一维线性光栅结构。整套标样具备优异的结构平行度与尺寸一致性,最小线宽可达 50 nm,结构深度统一为 250 nm,能够满足纳米技术、半导体、纳米光刻、纳米生物及材料科研等领域对 AFM 设备的计量校准需求,保障不同工况下测量数据的统一性与可靠性。

校准芯片整体尺寸为 8 mm×8 mm,芯片中心区域集成两级定位结构与多组线性光栅,布局规整、便于快速定位观测区域,适配主流型号原子力显微镜上机使用。产品可接受德国布伦瑞克联邦物理技术研究院(PTB)计量认证,校准数据具备权威溯源性。

二、核心结构与特点

1. 基底与表面:选用 <110> 单晶硅基底,芯片表面粗糙度低于 1 nm,基底稳定性强,可长期用于显微测量校准工作。

2. 光栅结构:全部为一维线性光栅,单组光栅区域尺寸约 10 μm×10 μm;共设置 6 组不同标称线宽的五线条光栅,线间间距约 1 μm,单组光栅标称长度 10 μm。

3. 边缘与侧壁性能:光栅侧壁倾角 89°,接近垂直;结构边缘半径小于 15 nm,边缘峰峰值粗糙度低于 5 nm,线条边缘锐利,可精准还原纳米尺度形貌特征。

4. 尺寸均匀性:线条沿长度方向尺寸偏差小,1 μm 区间内线宽偏差<3 nm(1σ),整体结构平行度偏差小于 10 nm,测量重复性良好。

5. 计量溯源:可按需提供 PTB出具的线宽、光栅周期校准证书,满足实验室计量、质检、第三方检测等合规要求。


商品参数

三、详细技术参数

项目

技术指标

基底材质

<110> 取向单晶硅

芯片尺寸

8 mm × 8 mm

基底表面粗糙度

<1 nm

光栅类型

一维线性光栅

单组光栅区域尺寸

约 10 μm × 10 μm

标称线宽(CD)

50 nm、100 nm、150 nm、200 nm、300 nm、800 nm

线宽偏差(1 μm 区间内,1σ)

<3 nm

光栅周期

1 μm + 对应线宽数值

主周期不确定度(1σ)

3 nm

结构深度

250 nm

边缘半径

<15 nm

边缘粗糙度(峰峰值)

<5 nm

侧壁倾角

89°

计量认证

可提供德国 PTB(布伦瑞克联邦物理技术研究院)校准认证


四、主要应用领域

1. 原子力显微镜校准:用于 AFM 设备 X/Y 轴尺度、纳米线宽、光栅周期的日常校准与定期核查,修正设备测量误差,保障 AFM 长期测量精度。

2. 探针针尖表征:依托锐利的纳米光栅结构,辅助检测、分析 AFM 探针针尖形貌、针尖半径等参数,判断针尖磨损状态,优化测试方案。

3. 半导体行业:半导体芯片、微纳器件、光刻胶图形的临界尺寸测量设备校准,适配纳米光刻工艺质控环节。

4. 材料科学研究:纳米薄膜、二维材料、微纳涂层等样品形貌测试前的设备校准,提升纳米尺度形貌、尺寸测量数据准确性。

5. 科研与检测实验室:高校、科研院所、第三方检测机构的 AFM 设备计量、能力验证、实验数据比对,实现测量结果国际互通。

6. 纳米生物技术:生物纳米结构、生物大分子等样品观测所用 AFM 设备的精度校准。

五、配套与使用说明

1. 芯片自带两级定位结构,可快速在显微镜视野中找到校准光栅区域,降低操作难度。

2. 标样为纯硅刻蚀结构,无额外镀层,化学稳定性好,常规实验室环境下可长期保存与重复使用。

3. 配套提供扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)参考成像资料,便于用户对照参考。

4. 支持原厂技术咨询,可按需申请 PTB 官方计量校准服务,适配各类合规化检测场景。


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